電子放電によるシアン化水素の形成

Toupance et al.（1975）は、C-H-Nガスを低圧電子放電に数秒間晒し、その流出物を解析した。炭化水素（エチレン、アセチレン、メチルアセチレン）と窒素を含む化合物（シアン化水素、シアン、飽和ニトリル、アクリロニトリル、シアノアセチレン）が含まれていた。正極は、長さ10cm、直径20mmのチューブ、陰極は直径１ｍｍのタングステンで構成した。反応炉の圧力は20トルとし、ガスを定常的に流した。ガスの放電滞在時間は約3秒だった。放電の電圧差は450-550Vで放電電流は100 mAだった。CH3とNH3の混合ガスの場合は、NH3濃度が約50％の時にHCNの収率が10％に達した。CH3とN2ガスの場合は、N2ガスの濃度が70%の時に、HCNの収率が最大に（9％）になった。

Toupance F.R. and Bouvet, R. 1975, Origin of Life, 6, 83-90.